Obere Düse aus Aluminiumnitrid (ALN) im Ionenimplanter

Ätzdüsen für Aluminiumnitrid in Halbleiteranwendungen

Die Aluminiumnitrid-Ätzdüse in der Halbleiteranwendung spiegelt sich hauptsächlich in ihrer hohen Verschleißfestigkeit, hohen Korrosionsbeständigkeit und hohen Präzisionseigenschaften wider. Diese Eigenschaften ermöglichen das Arbeiten unter hohen Temperaturen, hohem Druck und hoher Korrosionsumgebung über einen langen Zeitraum und verbessern die Ätzung Wirkung und Düsenlebensdauer.

Die Konstruktion und Herstellung von Aluminiumnitrid-Ätzdüsen soll den Anforderungen des Halbleiterherstellungsprozesses zur Materialentfernung mit hohen Präzisionsanforderungen gerecht werden. Beim Ätzprozess von Halbleitergeräten ist die Ätzdüse dafür verantwortlich, unerwünschtes Material von der Waferoberfläche zu entfernen, um eine präzise Strukturierung zu erreichen. Da der Halbleiterherstellungsprozess eine hohe Reinheit und Präzision des Materials erfordert, ist die Wahl des Materials für die Ätzdüse von entscheidender Bedeutung. Aufgrund seiner hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften ist Aluminiumnitrid eines der idealen Materialien zur Herstellung von Ätzdüsen.

Zu den Vorteilen von Aluminiumnitrid-Ätzdüsen gehören:

Hohe Abriebfestigkeit: Widersteht dem Aufprall und der Reibung von Partikeln mit hoher Geschwindigkeit und behält im Laufe der Zeit scharfe Kanten bei, um eine präzise Ätzung zu gewährleisten.

Hohe Korrosionsbeständigkeit: Kann in rauen Umgebungen wie starken Säuren und Laugen stabil arbeiten, Korrosion verhindern und den langfristig stabilen Betrieb der Ausrüstung gewährleisten.

Hohe Präzision: Die hochpräzisen Eigenschaften von Aluminiumnitrid ermöglichen es der Ätzdüse, die Menge des entfernten Materials genau zu steuern und so die Qualität und Leistung von Halbleiterprodukten zu verbessern.

Darüber hinaus weist die Aluminiumnitrid-Ätzdüse auch eine hohe thermische Stabilität und eine gute elektrische Isolierung auf und kann stabile physikalische und chemische Eigenschaften bei hohen Temperaturen und hohem Druck aufrechterhalten, um die Stabilität und Zuverlässigkeit des Halbleiterherstellungsprozesses sicherzustellen. Diese Eigenschaften machen die Aluminiumnitrid-Ätzdüse zu einer unverzichtbaren Schlüsselkomponente in der Halbleiterfertigung, die für die Verbesserung der Produktionseffizienz und Produktqualität von großer Bedeutung ist.

Datenblatt

Unser Vorteil

Die Xiamen Juci Company verfügt über eine Betriebsfläche von 30.000 Quadratmetern und die Produktionswerkstatt ist mit 30 Sätzen einzelner Sinteröfen sowie 8 Sätzen fortschrittlicher kontinuierlicher Sinteröfen mit einer Produktionskapazität von bis zu 1.000 Tonnen Aluminium pro Jahr ausgestattet Nitridpulver. Das Testzentrum ist etwa 800 Quadratmeter groß und mit mehr als 100 professionellen Pulver- und Keramiktestgeräten wie Rasterelektronenmikroskop, Partikelgrößenmessgerät, Stickstoff-Sauerstoff-Analysator, umfassendem Pulvertester, Wärmeleitfähigkeitsmessgerät usw. ausgestattet. Das Unternehmen verfügt über ein Forschungs- und Entwicklungszentrum mit einer Fläche von 1200 Quadratmetern, das mit mehr als 40 Spezialausrüstungen für Forschung und Entwicklung ausgestattet ist, sowie über ein Forschungs- und Entwicklungsteam von mehr als 30 Mitarbeitern, die ständig Produktoptimierung und Innovation vorantreiben, damit das Unternehmen seine Wettbewerbsfähigkeit behaupten kann Vorteil im harten Wettbewerb auf dem Markt.

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