Düse für Pulverspritzguss aus Aluminiumnitrid (ALN).

Ätzdüsen für Aluminiumnitrid in Halbleiteranwendungen

Aluminiumnitrid-Düse in der Halbleiteranwendung spiegelt sich vor allem in seiner hohen Verschleißfestigkeit, hohen Korrosionsbeständigkeit und hohen Präzisionseigenschaften wider. Diese Eigenschaften ermöglichen das Arbeiten unter hohen Temperaturen, hohem Druck und hoher Korrosionsumgebung über einen langen Zeitraum und verbessern den Ätzeffekt und die Düsenlebensdauer .

Ätzdüse für Aluminiumnitrid Design und Herstellung sollen dem Halbleiterherstellungsprozess der Materialentfernung hohe Präzisionsanforderungen erfüllen. Beim Ätzprozess von Halbleitergeräten ist die Ätzdüse dafür verantwortlich, unerwünschtes Material von der Waferoberfläche zu entfernen, um eine präzise Strukturierung zu erreichen. Da der Halbleiterherstellungsprozess eine hohe Reinheit und Präzision des Materials erfordert, ist die Wahl des Materials für die Ätzdüse von entscheidender Bedeutung. Aufgrund seiner hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften ist Aluminiumnitrid eines der idealen Materialien zur Herstellung von Ätzdüsen.

Zu den Vorteilen von Aluminiumnitrid-Ätzdüsen gehören:

Hohe Abriebfestigkeit: Widersteht dem Aufprall und der Reibung von Partikeln mit hoher Geschwindigkeit und behält im Laufe der Zeit scharfe Kanten bei, um eine präzise Ätzung zu gewährleisten.

Hohe Korrosionsbeständigkeit: Kann in rauen Umgebungen wie starken Säuren und Laugen stabil arbeiten, Korrosion verhindern und den langfristig stabilen Betrieb der Ausrüstung gewährleisten.

Hohe Präzision: Die hohen Präzisionseigenschaften von Aluminiumnitrid ermöglichen es der Ätzdüse, die Menge des entfernten Materials genau zu steuern und so die Qualität und Leistung von Halbleiterprodukten zu verbessern.

Darüber hinaus weist die Aluminiumnitrid-Ätzdüse auch eine hohe thermische Stabilität und eine gute elektrische Isolierung auf und kann stabile physikalische und chemische Eigenschaften bei hohen Temperaturen und hohem Druck aufrechterhalten, um die Stabilität und Zuverlässigkeit des Halbleiterherstellungsprozesses sicherzustellen. Diese Eigenschaften machen die Aluminiumnitrid-Ätzdüse zu einer unverzichtbaren Schlüsselkomponente in der Halbleiterfertigung, die für die Verbesserung der Produktionseffizienz und Produktqualität von großer Bedeutung ist.

Datenblatt

Unser Vorteil

Die Xiamen Juci Company verfügt über eine Betriebsfläche von 30.000 Quadratmetern und die Produktionswerkstatt ist mit 30 Sätzen einzelner Sinteröfen sowie 8 Sätzen fortschrittlicher kontinuierlicher Sinteröfen mit einer Produktionskapazität von bis zu 1.000 Tonnen Aluminium pro Jahr ausgestattet Nitridpulver. Das Testzentrum ist etwa 800 Quadratmeter groß und mit mehr als 100 professionellen Pulver- und Keramiktestgeräten wie Rasterelektronenmikroskop, Partikelgrößenmessgerät, Stickstoff-Sauerstoff-Analysator, Pulver-Kompletttester, Wärmeleitfähigkeitsmessgerät usw. ausgestattet. Das Unternehmen verfügt über ein F&E-Zentrum mit einer Fläche von 1200 Quadratmetern, das mit mehr als 40 R&D-Spezialgeräten ausgestattet ist, und ein F&E-Team von mehr als 30 Mitarbeitern, die ständig Produktoptimierung und Innovation vorantreiben, damit das Unternehmen seine Wettbewerbsfähigkeit behaupten kann Vorteil im harten Wettbewerb auf dem Markt.

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